Sensofar共聚焦白光干涉儀 | 共聚焦技術

共聚焦輪廓儀專為測量光滑表面到極粗糙表面而開發(fā)。共聚焦輪廓提供更佳的橫向分辨率，可達 0.15μm 線條和空間，空間采樣可減少到 0.01μm，這是關鍵尺寸測量的理想選擇。

背景

Sensofar共聚焦白光干涉儀 | 共聚焦技術

共聚焦技術能夠測量表面高度，將常規(guī)圖像轉換成光學剖面，其中，物鏡焦深范圍內的那些區(qū)域的信號被保留，改善了圖像對比度、橫向分辨率和系統(tǒng)噪聲。

光學方案

對于 3D 成像，必須從相機的所有像素獲取數(shù)據(jù)。這意味著：重新構建共聚焦圖像。為此，多狹縫圖像偏移一個像素，達到必要的次數(shù)，以填充相機。多狹縫每偏移一次，拍一張相機圖像，對那一刻照亮的像素應用共聚焦算法。

SENSOFAR 技術

光學結構中沒有運動零件

       Sensofar 系統(tǒng)中實施的共聚焦掃描技術是微顯示器掃描共聚焦顯微鏡（根據(jù) ISO 25178 第 607 部分）。微顯示器創(chuàng)造了一個沒有運動零件的快速切換裝置，使得數(shù)據(jù)采集快速、可靠和準確。由于這一點和相關的算法，Sensofar 的共聚焦技術產生了優(yōu)異的垂直分辨率。

專屬算法

不要現(xiàn)在阻止我！ 連續(xù)共聚焦

       共聚焦測量技術中革命性的一步，將采集時間穩(wěn)步減少 3 倍。連續(xù)共聚焦模式通過同時掃描面內和 Z 軸，避免了經(jīng)典共聚焦的離散（耗時）面與面采集。對于減少大面積掃描和大 Z 掃描的采集時間至關重要。

主要特征

       共聚焦輪廓提供更佳的橫向分辨率，可達 0.15μm 線條和空間，空間采樣可減少到 0.01μm，這是關鍵尺寸測量的理想選擇。高 HA (0.95) 和放大倍率 (150X) 的物鏡可用于測量局部斜率超過 70°的光滑表面。對于粗糙表面，最高可允許 86°。

       更佳的橫向分辨率： 300 nm（Rayleigh準則）

       斜率高達 70o（光滑表面） 和 86o（粗糙表面）

       連續(xù)共聚焦：速度堪比AiFV

       高重復性，低至 1 nm 的系統(tǒng)噪聲

       從 1.5 μm 到數(shù)毫米的厚度測量

       更高程度的靈活性

共聚焦系統(tǒng)